一、超聲波清洗機工藝流程

研磨后的清洗：

研磨是光學玻璃生產中決定其加工效率和表面質量（外觀和精度）的重要過程。研磨過程中的主要污染物是研磨粉和瀝青，少數企業在加工過程中會有漆片。其中，研磨粉的型號不同，一般為堿金屬氧化物，主要是二氧化鈦。根據鏡片的材料和研磨精度，選擇不同型號的研磨粉。研磨過程中使用的瀝青起到保護作用，防止拋光鏡被劃傷或腐蝕。研磨后的清洗設備大致分為兩種：

一種主要使用有機溶劑清洗劑，另一種主要使用半水基清洗劑。

有機溶劑清洗的清洗工藝如下:

有機溶劑清洗劑(超聲波)-水基清洗劑(超聲波)-市水漂洗-純水漂洗-IPA(異丙醇)脫水-IPA慢拉干燥。

有機溶劑清洗劑的主要用途是清洗瀝青和漆片。過去，三氯乙烷或三氯乙烯主要用于溶劑清洗劑。由于三氯乙烷是ODS（臭氧層消耗物質）產品，目前正處于強制淘汰階段；長期使用三氯乙烯容易導致職業病，由于三氯乙烯不穩定，容易水解酸性，會腐蝕鏡片和設備。為此，國內清潔劑制造商開發生產了一系列非ODS溶劑清潔劑，可用于清潔光學玻璃；該系列產品具有不同的物理化學指標，可有效滿足不同設備和工藝條件的要求。例如，在少數企業的生產過程中，鏡片表面有一層難以處理的漆片，需要特殊溶解的有機溶劑；部分企業清洗設備溶劑清洗槽冷凝管少，自由程短，需要揮發慢的有機溶劑；另一些企業需要快速揮發。

水基清洗劑的主要用途是清洗研磨粉。由于研磨粉是堿金屬氧化物，溶劑的清洗能力很弱，鏡片加工過程中產生的研磨粉基本上在水基清洗單元中去除，對水基清洗劑的要求很高。過去，由于國內光學玻璃專用水基清洗劑品種較少，許多外國企業選擇進口清洗劑。目前，國內公司已開發出光學玻璃清洗劑，并已成功應用于國內多家大型光學玻璃制造商。清洗效果可以完全取代進口產品，優于腐蝕性（防腐性能）等指標的進口產品。

對于IPA慢拉干燥，需要注意的是，一些類型的鏡后容易產生水印，這種現象一方面與IPA的純度和空氣濕度有關，另一方面與清潔設備有很大的關系，特別是手臂干燥效果明顯不如單臂干燥好，需要設備制造商和用戶注意這一點。

二、半水基清洗采用的清洗工藝如下

半水基清洗劑(超聲波)-市水沖洗-市水沖洗-純水沖洗-IPA脫水-IPA慢拉干燥。

與溶劑清洗相比，這種清洗工藝最大的區別在于前兩個清洗單元：有機溶劑清洗僅對瀝青或漆片有良好的清洗效果，但不能清洗研磨粉等無機物質；半水基清洗劑不同，不僅能清洗瀝青等有機污染物，而且對研磨粉等無機物質有良好的清洗效果，大大降低了后續清洗單元中水基清洗劑的清洗壓力。半水基清洗劑的特點是揮發速度慢，氣味小。第一個清洗單元中使用半水基清洗劑的設備不需要密封、冷凝、蒸餾和回收裝置。但由于半水基清洗劑粘度大，對后續工藝中使用的水基清洗劑有乳化作用，第二個單元必須用城市水沖洗，最好設置為水沖洗。

國內應用這一工藝的企業并不多，其中一個原因是半水基清洗劑多為進口，價格比較貴。

從水基清洗單元開始，半水基清洗工藝與溶劑清洗工藝基本相同。這里不再重復了。

三、有機溶劑清洗與半水基清洗

溶劑清洗是一種更傳統的方法，其優點是清洗速度快，效率高，溶劑本身可不斷蒸餾回收，但缺點明顯，由于光學玻璃生產環境需要恒溫恒濕，是封閉車間，溶劑氣味會對工作環境產生一定的影響，特別是使用不封閉的半自動清洗設備。

半水基清洗是近年來逐步發展和成熟的一種新工藝，在傳統溶劑清洗的基礎上得到了改進。有效避免溶劑的一些弱點，無毒，氣味輕微，廢液可排入污水處理系統，設備配套設備少，使用周期比溶劑長，運行成本低于溶劑。半水基清洗劑最突出的優點之一是對研磨粉等無機污染物具有良好的清洗效果，大大降低了后續單元水基清洗劑的清洗壓力，延長了水基清洗劑的使用壽命，減少了水基清洗劑的用量，降低了運行成本。

它的缺點是清洗速度比溶劑慢，必須沖洗。

涂層前清洗：

涂層前清洗的主要污染物是核心油（也稱為磨邊油，核心也稱為核心。核心，是指為了獲得規定的半徑和核心精度而選擇的過程）。指紋。灰塵等。由于涂層過程對鏡片清潔度的要求非常嚴格，因此清潔劑的選擇非常重要。在考慮某種清潔劑的清潔能力的同時，也要考慮其腐蝕性等問題。

涂層前的清洗一般與研磨后的清洗方法相同，分為溶劑清洗和半水基清洗。工藝流程和化學品類型如上所述。

涂層后清洗：

一般包括油漆前的清潔。組裝前的清潔和組裝前的清潔，包括組裝前的清潔（組合是指用光敏膠將兩個鏡頭粘在規定的形狀上，以滿足無法一次加工成型的需要，或創造更特殊的曲率。透光率的過程）是最嚴格的要求。接頭前清洗的污染物主要是灰塵。手印等混合物，清洗不難，但對鏡片表面清潔度要求很高，其清洗方法與前兩種清洗工藝相同。